GNP

       G&P Technology成立于1999年,致力于CMP新技术的开发与应用,为大学、研究机构和企业提供高质量、高性价比的CMP(化学机械抛光)系统及服务。G&P Technology与亚洲、欧洲和美国知名的CMP实验室保持长期合作关系,为各类研发机构提供了200多套设备,广泛应用于化合物半导体、集成电路、MEMS等领域。目前12英寸抛光设备POLI-762和清洗设备Cleaner-812L已经应用于研发和中试生产线。G&P Technology将继续在CMP领域为客户提供更加先进、智能化的设备。



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